UPW-HiDB超纯水抛光除硼系统
应(ying)用对象(xiang):集成(cheng)电路与硅片产业对硼要求极高的超纯(chun)水处理(li)系统
关键技术:除(chu)硼树(shu)脂、抛光树(shu)脂、除(chu)硼阴床
技术优势:
1)硼(peng)选择(ze)树脂含有(you)多羟基官能团,对于硼(peng)酸具有(you)高选择(ze)性;
2)双层床的设计及(ji)后置的TOC-UV解决(jue)除硼树脂TOC溶出(chu)的问题;
3)产水(shui)B浓度 < 10 ppt,TOC < 2 ppb。