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UPW-HiDB超纯水抛光除硼系统

时间: 2025-02-07

应(ying)用对象(xiang):集成(cheng)电路与硅片产业对硼要求极高的超纯(chun)水处理(li)系统

关键技术:除(chu)硼树(shu)脂、抛光树(shu)脂、除(chu)硼阴床

技术优势:

1)硼(peng)选择(ze)树脂含有(you)多羟基官能团,对于硼(peng)酸具有(you)高选择(ze)性;

2)双层床的设计及(ji)后置的TOC-UV解决(jue)除硼树脂TOC溶出(chu)的问题;

3)产水(shui)B浓度 < 10 ppt,TOC < 2 ppb。


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